Hi ha tècniques de modificació de superfície per a objectius de tungstè?

Sí, hi ha diverses tècniques de modificació de la superfície per als objectius de tungstè. Una de les tècniques és dipositar un recobriment de baixes energia superficial a la superfície de l’objectiu de Tungstè. Això es pot aconseguir mitjançant mètodes com la deposició de vapor química millorada en plasma (PECVD) o la deposició de vapor físic (PVD).
El baix recobriment d’energia superficial pot reduir l’energia superficial de l’objectiu de tungstè, que pot ajudar a reduir l’adhesió de materials i prevenir la acumulació de materials durant el processament de plasma. Una altra tècnica és texturitzar la superfície de l’objectiu de tungstè, que es pot aconseguir mitjançant mètodes com l’ablació làser o el peening de tir.
La texturització pot formar una superfície rugosa que millori la humectació de la superfície reduint l’àrea de contacte entre la superfície objectiu i el material, minimitzant així l’adhesió del material. Aquestes tècniques de modificació de superfície poden millorar el rendiment i la vida útil dels objectius de tungstè en les tecnologies de processament de materials de plasma.