Objectiu de pulverització de metall Pure Ta

Objectiu de pulverització de metall Pure Ta

Puresa: 99,9%
Termini de lliurament: 15-18 dies
Superfície: polida i brillant
Certificat: ISO9001:2015
Quantitat mínima de comanda: 1 peça
Enviar la consulta
Descripció
Paràmetres tècnics
Usos de les dianes de tàntal

 

Es pot utilitzar per fer recipients d'evaporació, etc., i també es pot utilitzar com a elèctrodes per a tubs electrònics, rectificadors, condensadors electrolítics, etc.

S'utilitza en medicina per fer làmines o filaments prims i reparar teixits danyats.

S'utilitza àmpliament en indústries química, electrònica, elèctrica, militar i altres.

Els objectius de tantal s'utilitzen àmpliament en semiconductors, emmagatzematge, militars, aeroespacials, vidre, recobriment PVD, recobriment CVD, etc.

 

Especificacions dels objectius de tantal

 

Item
Objectius de tantal pur
Puresa disponible
99.95%
Talla disponible
Mida popular 1''-20'' com a sol·licitud del client
Forma disponible
Rectangle, rodó, rotatiu, pellets, lingots,
Tecnologia
Sinterització

 

El nostre servei

 

1. Farem tot el possible per respondre les sol·licituds dels nostres clients en un termini de 24 hores.

2. Mantindrem comunicacions efectives i eficients amb els nostres clients.
3. Oferim un control de qualitat de primera classe i serveis postvenda.

 

Visita al client i entorn de l'empresa

 

Pure Tantalum metal sputtering target

ta metal sputtering target

Zhenan és un proveïdor professional de productes metàl·lics a la Xina amb una qualitat excel·lent, preus favorables i bona reputació. Benvingut a visitar la nostra fàbrica.

Etiquetes populars: objectiu de pols de metall pur, Xina fabricants, proveïdors, fàbrica d'objectius de pols de metall pur