Puresa: la puresa deObjectiu de Tantalumés crucial per al seu rendiment. Els nivells comuns de puresa són el 99,95% (3N5), el 99,99% (4N) i el 99,995% (4N5). L’objectiu de tàntal d’alta puresa pot reduir l’impacte de les impureses sobre les propietats del material i millorar la qualitat i l’estabilitat del recobriment.
Mida del gra: la mida del gra és un paràmetre clau que reflecteix el rendiment intern del material. Per a l'objectiu de Tantam, la mida adequada del gra ajuda a millorar les seves propietats mecàniques i l'efecte de recobriment. En general, la mida del gra de l’objectiu de tàntal fluctuarà en un rang determinat i el valor específic depèn del procés de preparació i de la qualitat de les matèries primeres.
Densitat: la densitat de l’objectiu de tàntal és d’uns 16,68g/cm³, cosa que ajuda a comprendre la relació entre el pes i el volum del material, per tal de dissenyar i calcular millor en aplicacions pràctiques.
Punt de fusió i punt d’ebullició: el punt de fusió de l’objectiu de Tantam és fins a 3017 graus i el punt d’ebullició és de 5458 graus. L’elevat punt de fusió permet als objectius de tàntal mantenir un rendiment estable en ambients d’alta temperatura, cosa que els fa adequats per a processos de recobriment que necessiten suportar temperatures altes.
Ronda Tantalum Target Detalls de detalls de la imatge de la imatge
