Mètode de preparació de la diana de níquel
⑴Mètode de pulverització - Sputtering DC: utilitzat per a materials no aïllants com el níquel, es forma una diferència de tensió entre elobjectiui el substrat a través d'una font d'alimentació de corrent continu, impulsant els àtoms de níquel per brotar des de la superfície objectiu fins al substrat. - Sputtering RF: adequat per a materials aïllants o d'alta resistència. La pulverització de RF forma un camp elèctric de radiofreqüència entre l'objectiu i el substrat per excitar el gas per generar plasma, afavorint així la deposició d'àtoms de níquel.
⑵Mètode d'evaporació del feix d'electrons: en un entorn de buit, s'utilitza un feix d'electrons d'alta energia per colpejar l'objectiu de níquel, de manera que els àtoms de níquel de la seva superfície guanyen energia per evaporar-se i condensar-se al substrat per formar una pel·lícula fina.
⑶ Deposició de vapor químic (CVD): el níquel es diposita a la superfície del substrat a alta temperatura mitjançant reaccions químiques. Aquest mètode requereix compostos volàtils de níquel com a reactius i, controlant amb precisió les condicions de reacció, es pot obtenir una pel·lícula de níquel d'alta puresa i uniforme.
⑷ Mètode de premsat en calent: la pols de níquel es comprimeix i es modela a alta temperatura i alta pressió, normalment s'utilitza per produir objectius de níquel d'alta puresa i alta densitat. Aquest mètode pot controlar la microestructura de l'objectiu de níquel i millorar les seves propietats físiques.
⑸Electròlisi: aquest és un mètode per dipositar níquel directament d'una solució de sal de níquel sobre un substrat mitjançant un procés electrolític. Aquesta tecnologia pot produir objectius de níquel de gran superfície a baix cost.
⑹ Sputtering magnètic: en afegir un camp magnètic per controlar la trajectòria de les partícules polveritzades, es millora l'eficiència de deposició de l'objectiu de níquel i la uniformitat de la capa de pel·lícula.
Paràmetres detallats de l'objectiu de níquel
| Producte: | Objectiu de pulverització de níquel |
| Puresa: | 99.99%, 99.995% |
| Mida: | personalitzat |
| Forma: | rectangular o rodó |
| Tecnologia: | VIM |
| Aplicació: | indústria del recobriment de pvd |
| Embalatge: | Paquet segellat al buit a l'interior, cartró d'exportació o caixa de fusta a l'exterior |
Visualització del producte objectiu de níquel
Per què triar-nos?
1. Certificació de qualitat
Els productes han superat la certificació del sistema de gestió de qualitat IS09001
2. Suport OEM/ODM
Suport OEM/ODM. Tenim un excel·lent equip de disseny per satisfer les necessitats dels diferents clients
3. Servei atent
Equip d'enginyers i vendes professionals, línia directa de 7 * 24 hores per resoldre els vostres problemes
Visites de clients i imatges de l'entorn de l'empresa
Preguntes freqüents sobre ZhenAn
P1: Puc obtenir mostres per fer proves?
A: Sí! La prova pot mostrar visualment els resultats de l'aplicació. De fet, les mostres són gratuïtes,
Només heu de pagar la tarifa de missatgeria.
P2: Puc utilitzar el nostre propi embalatge?
A: Sí! Podem proporcionar OEM. Podeu enviar els materials d'embalatge a la nostra fàbrica
O podem comprar-vos l'embalatge especificat.
Si aquest és el cas, potser haureu de pagar algunes tarifes addicionals.
P3: Teniu un procediment d'inspecció per als materials d'evaporació?
R: 100% d'autoinspecció abans de l'embalatge
P4: Què tinc en compte quan trio un material d'evaporació?
R: L'aplicació i l'efecte de l'aplicació que voleu.
P5: Què tinc en compte quan trio un proveïdor de material d'evaporació?
R: Fabricant professional i experimentat, control de qualitat estable, servei eficient.
P6: Puc visitar la vostra empresa i fàbrica abans de fer la comanda?
R: Per descomptat, és molt benvingut a visitar-lo.
Informació de l'adreça de la nostra empresa: Centre comercial Huafu, districte de Wenfeng, ciutat d'Anyang, província de Henan, Xina
Podem recollir-te a l'aeroport i oferir-te una sèrie de serveis.