Nb Objectiu de Sputtering

Nb Objectiu de Sputtering

Embalatge: embalatge de caixa de fusta
Quantitat mínima de comanda: 1 peça
Característiques: alta resistència
Paraules clau: diana de niobi
Enviar la consulta
Descripció
Paràmetres tècnics
Introducció de paràmetres de material objectiu de niobi

 

Material diana de niobi
Grau: 3N5, puresa 4N
Especificacions: objectiu pla o rotatiu, es pot personalitzar segons les necessitats
Aplicació: àmpliament utilitzat en entorns corrosius com ara LCD, lents òptiques, imatges electròniques, emmagatzematge d'informació, cèl·lules solars, recobriment de vidre, vaixells, productes químics, etc.

 

Introducció a diversos paràmetres de la diana de niobi

 

Nom del producte (en%) Composició Niobi (Nb)
Procés de producció Fusió-laminació
Puresa objectiu

Superior o igual al 99,95%

Mida mitjana del gra

Menys o igual a 100μm

Densitat relativa

Superior o igual al 99%

Composició típica D160 * 12, D105 * 16 es poden personalitzar segons les necessitats
Estructura comuna Capa única

 

Els nostres serveis

 

1. Lliurament puntual

2. Lliurament porta a porta

3. Garantia integral que cobreix tots els nostres productes

4. Resposta ràpida a consultes i problemes postvenda

 

Visites de compradors i fotos de l'entorn de l'empresa

 

pure tungsten Niobium target company

nb sputtering target company

La nostra empresa té el seu propi sistema SOP per a la producció, vendes i servei postvenda. Espero que puguem oferir-vos bons serveis i professionals!

Etiquetes populars: objectiu de sputtering nb, fabricants, proveïdors, fàbrica d'objectius de sputtering nb de la Xina